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紅外線燈加熱裝置在鐵電薄膜的晶體退火上的運用

發布日期：2021-08-26 瀏覽次數：1377

紅外線燈加熱裝置在鐵電薄膜的晶體退火上的運用

MILA-5000系列可以進行高速加熱/冷卻和清潔加熱，這是紅外金像爐的特點。它可以在自由氣氛中加熱，并且帶有集成溫度控制器和變量的緊湊和廉價大氣室. 紅外線燈加熱裝置.
可通過USB連接在個人電腦上進行加熱操作, 數據易于管理。

用途

鐵電薄膜的晶體退火
離子注入后的擴散退火、氧化膜形成退火
Si、復合晶片燒結、合金化處理
玻璃基板均溫儀
熱循環、熱沖擊、熱疲勞試驗
升溫脫附試驗用加熱爐
催化效果試驗

特征

選擇任何氣氛，如真空、氣體、氣流、氣氛
精確的溫度控制
桌面和緊湊的設計
您可以輕松設置溫度程序并從計算機輸入外部信號。
可以在個人電腦上顯示加熱過程中的溫度數據。

規格

模型	MILA-5000-PF （均熱型）	MILA-5000-PN （高溫型）	MILA-5000UHV （高溫/高真空型）
溫度范圍	室溫～800℃	室溫～1200℃
樣品尺寸	方形 20mm x 厚度 2mm
加熱氣氛	在空氣中、真空中、惰性氣體中		在空氣中，在高真空中，在惰性氣體中
極限真空度	6.5Pa（RP ^*1使用，常溫空載）		10 ^-4 Pa（TMP ^*1使用，常溫空載）

* 1 真空排氣裝置是一個選項
* 2 加熱溫度因被加熱物體的紅外線反射/吸收、熱容量和材料而異。

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聯系方式

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傳真

在線交流

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