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多層膜沉積設備VES-10的功能優勢
該設備有兩個獨立的腔室，分別具有碳蒸發、磁控濺射、親水處理等功能。一臺設備具備VC-300、MSP-1S、PIB-10三種型號的性能。兩個排氣管系統使用外部旋轉泵排氣進行切換。
另外，每個腔室都可以獨立抽真空并釋放到大氣中，并且腔室可以保持真空。
碳蒸鍍
TEM、SEM、X射線分析等碳膜生成設備用于防止樹脂嵌入樣品等的充電。
這是用于離子濺射
SEM觀察的貴金屬薄膜鍍膜專用裝置。我們進行貴金屬涂層以防止SEM樣品充電并提高二次電子產生效率。除了使用磁控管靶電極進行低壓放電外，還將樣品臺制成浮動式，以減少電子束流入對樣品造成的損壞。
親水處理
用于透射電鏡網格、火棉膠支撐膜、碳支撐膜等金剛石刀具的親水處理，以及油脂污漬的清洗。
交流放電產生的等離子體離子照射到樣品表面。破壞樣品表面的化學鍵并形成官能團。這促進了活性樣品表面和水分子之間的化學鍵合，使其具有親水性。
它還可以有效破壞油污和脂肪污漬的化學鍵并將其去除。
照射強度（軟/硬）可以切換。
該產品是一套裝置，包括裝置本身、旋轉泵和 SUS 軟管。
需要親臨現場講解安裝和操作。
VES-10 的
金靶材
[t=0.1mm]
VES-10 的
Pt 靶材
[t=0.1mm]
VES-10 的
Au-Pd 靶材
[t=0.1mm]
Au60%: Pd40%
VES-10 的
Pt-Pd 靶材
[t=0.1mm]
Pt80%: Pd20%
VES-10 的
銀靶材
[t=0.5mm]
專用碳
SLC-30
1箱（100個）
碳纖維
SLC-30
10 盒套裝
VES-10 玻璃瓶包裝（2 件為 1 套）
VES10 碳涂層側玻璃腔室
VES10 離子涂層側玻璃室
旋轉泵油（500ml）
[SMR-100]
如果玻璃室、夾緊彈簧和防塵板等老化或損壞的部件，我們還可以制造它們。
對于任何其他維護/維修查詢，請通過服務查詢與我們聯系。
Au：金
觀察面積：數千至10,000倍
Au-Pd：金鈀
觀察面積：10,000至50,000倍
適合低倍率觀察，對比度良好。
Pt：鉑
觀察面積：10,000～50,000倍
Pt-Pd：鉑鈀
觀察面積：30,000～50,000倍
粒徑細小，常用于高倍率觀察。
該裝置濺射功能的主要目的是在臺式SEM或通用SEM觀察之前進行導電涂層。
*如果您使用能夠高倍觀察的FE-SEM，請考慮使用鎢濺射裝置（MSP-20TK）或鋨鍍膜機（HPC-20）。
*如果您優先考慮電極制作等的薄膜質量，請考慮可在氬氣氣氛中濺射的MSP-20系列。
碳鍍膜機主要分為僅有旋轉泵排氣的設備或配備渦輪泵的高真空蒸發設備。了解高真空蒸發設備性能的差異在選擇設備時非常有用。
旋轉泵排氣氣相沉積設備 VES-10、VC-300S/W | 高真空抽真空沉積設備 VE-2013、VE-2050 等 | |
| 真空排氣系統 | 旋轉泵 | 旋轉泵+渦輪分子泵 |
| 沉積真空度 | 1-2（帕） | 5×10 -3 (Pa)以下 |
| 顆粒感 |  顆粒細，但膜較粗。 |  顆粒細密，膜質美觀。 |
| 膜質量 | 該薄膜粗糙且易碎，因為它在與殘余分子碰撞時積累。 | 無殘留分子，顆粒呈直線飛行、粘附，膜質潔凈、堅固。 |
| 環繞能力 | 它在與殘余分子碰撞時向多個方向散射，因此具有一些環繞特性。 | 顆粒沿直線飛行并粘附，但在陰影區域不形成薄膜。 |
| 使用碳氣相沉積的目的 | 切片和支撐膜的加固、元素分析、高倍SEM觀察、FIB保護膜等。 | 切片和支撐膜的強化、元素分析、高倍SEM觀察、FIB保護膜、碳支撐膜的制作、遮蔽法等。 |
*碳鍍膜機是針對特定用途而設計的，其用途有限，但可以降低設備價格。
| 物品 | 規格 |
|---|---|
| 電源 | AC100V（單相100V15A）3P帶地插頭1口 |
| 設備尺寸 | 寬度400mm，深度360mm，底座高度280mm CARBON室高度+185mm ION室高度+101mm （設備重量：29Kg） |
| 旋轉泵 | 抽速 50?/min (GLD-051) 重量 13.9kg 旋轉泵油 (SMR-100) 使用量：600-800ml |
| 碳蒸鍍側規格 | |
| 樣品室尺寸 | 內徑120mm，高140mm（硬玻璃） |
| 氣相沉積源-樣品臺距離 | 直徑50mm（浮動法） |
| 電極-樣品臺距離 | 45mm 至 75mm 可調 |
| 樣品臺尺寸 | Φ100mm |
| 可安裝樣品尺寸 | Φ98mm，最大樣品高度40mm |
| 氣相沉積電源 | 排氣、蒸發。 每個固定電壓進行 2 步切換，預設為最佳電壓 |
| 碳源 | 專用補充型碳SLC-30 |
| 電離室側面規格 | |
| 樣品室尺寸 | 內徑120mm，高65mm（硬玻璃） |
| 電極-樣品臺距離 | 固定在35mm |
| 樣品臺尺寸 | Φ50mm（浮動法） |
| 濺射靶電極 | 內置永磁體的磁控管式靶電極 |
| 目標金屬規格 | Φ51mm，厚度0.1mm Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag（t0.5mm） |
| 濺射電源 | DC500V、0~50mA（可變電阻調節） |
| 親水處理用電極 | Φ50mm，不銹鋼靶材 |
| 親水處理電源 | SOFT: 450V, 10~20mA HARD: 550V, 20~30mA (可任意切換) |
